最近中文字幕,免费高清理伦片A片在线观看,偷窥 性别 瘾 XXXXX,国产欧美综合系列在线

產(chǎn)品目錄
您的位置: 網(wǎng)站首頁 >> 技術(shù)文章 >> VICI進(jìn)口HP2氣體純化器的技術(shù)指標(biāo)

VICI進(jìn)口HP2氣體純化器的技術(shù)指標(biāo)

發(fā)布日期: 2024-12-18
瀏覽人氣: 70

Valco HP2氦氣純化器和NP2氮?dú)饧兓魍ㄟ^吸氣合金材質(zhì)的純化襯底,有效去除活性氣體雜質(zhì),確保氣體純度達(dá)到ppb級(jí)別。適用于高靈敏檢測器和雜質(zhì)檢測器,防止毛細(xì)柱損壞。設(shè)備具備自控裝置以維持適宜溫度,且安裝簡便、安全可靠。氮?dú)夂秃饧兓鞣謩e針對(duì)氮?dú)夂投栊詺怏w進(jìn)行純化處理,滿足不同實(shí)驗(yàn)需求

Valco HP2氦氣純化器和NP2氮?dú)饧兓魍ㄟ^吸氣合金材質(zhì)的純化襯底,有效去除活性氣體雜質(zhì),確保氣體純度達(dá)到ppb級(jí)別。適用于高靈敏檢測器和雜質(zhì)檢測器,防止毛細(xì)柱損壞。設(shè)備具備自控裝置以維持適宜溫度,且安裝簡便、安全可靠。氮?dú)夂秃饧兓鞣謩e針對(duì)氮?dú)夂投栊詺怏w進(jìn)行純化處理,滿足不同實(shí)驗(yàn)需求

載氣的純度對(duì)高靈敏檢測器和雜質(zhì)檢測器非常重要,甚至?xí)p壞毛細(xì)柱。Valco HP2(氦純化器)能純化氦氣和其它惰性氣體,如氬,氖氣,氪氣,和氙氣,還有低于ppm級(jí)的活性氣體雜質(zhì)。NP2同HP2相似,專門純化氮?dú)猓箽怏w雜質(zhì)含量在ppm級(jí)以下。

Valco氣體純化器的純化襯底是一個(gè)防蒸發(fā)的吸氣合金材質(zhì)。堅(jiān)固合金是焊接裝配件,所以純化器在工業(yè)可安全使用,不必?fù)?dān)心。吸氣劑受熱后,顆粒表面的氧化膜脫掉,氦氣就大量的吸附在顆粒的表面上。HP2和NP2有一個(gè)自控裝置,它能防止熱量散失,使吸氣劑保持在合適的溫度。 

小型氣體純化器

Valco小型氦氣和小型氮?dú)饧兓靼惭b在氣相色譜流路上,進(jìn)樣口的上游附近。HPM/NPM能清除任何由流路控制器,軟管密封件,壓力控制器,原樣,或者因?yàn)槠渌到y(tǒng)成分不純或泄漏所引入的雜質(zhì)。

Valco HP2氦氣純化器和NP2氮?dú)饧兓魍ㄟ^吸氣合金材質(zhì)的純化襯底,有效去除活性氣體雜質(zhì),確保氣體純度達(dá)到ppb級(jí)別。適用于高靈敏檢測器和雜質(zhì)檢測器,防止毛細(xì)柱損壞。設(shè)備具備自控裝置以維持適宜溫度,且安裝簡便、安全可靠。氮?dú)夂秃饧兓鞣謩e針對(duì)氮?dú)夂投栊詺怏w進(jìn)行純化處理,滿足不同實(shí)驗(yàn)需求

載氣的純度對(duì)高靈敏檢測器和雜質(zhì)檢測器非常重要,甚至?xí)p壞毛細(xì)柱。Valco HP2(氦純化器)能純化氦氣和其它惰性氣體,如氬,氖氣,氪氣,和氙氣,還有低于ppm級(jí)的活性氣體雜質(zhì)。NP2同HP2相似,專門純化氮?dú)猓箽怏w雜質(zhì)含量在ppm級(jí)以下。

Valco氣體純化器的純化襯底是一個(gè)防蒸發(fā)的吸氣合金材質(zhì)。堅(jiān)固合金是焊接裝配件,所以純化器在工業(yè)可安全使用,不必?fù)?dān)心。吸氣劑受熱后,顆粒表面的氧化膜脫掉,氦氣就大量的吸附在顆粒的表面上。HP2和NP2有一個(gè)自控裝置,它能防止熱量散失,使吸氣劑保持在合適的溫度。 

小型氣體純化器

Valco小型氦氣和小型氮?dú)饧兓靼惭b在氣相色譜流路上,進(jìn)樣口的上游附近。HPM/NPM能清除任何由流路控制器,軟管密封件,壓力控制器,原樣,或者因?yàn)槠渌到y(tǒng)成分不純或泄漏所引入的雜質(zhì)。

技術(shù)提示: 

氦純化器

■純化的氣體  氦,氖,氬,氪,氙,氡

■操作壓力  1000psi

■能去除的雜質(zhì) 出口雜質(zhì)低于10ppb(H2O,H2,O2,N2, CO,NO,NH3,CO2的進(jìn)樣雜質(zhì)為前提其它雜技包括CF4,CCL4,SiH4和低分子碳化物

■不能去除的雜質(zhì)  氦,氖,氬,氪,氙

 

氮純化器

■純化的氣體  只有氮?dú)?/p>

■能去除的雜質(zhì) 出口雜質(zhì)低于10ppb (H2O, H2, O2,NO, CO, CO2, NH3,),10ppm的總的進(jìn)樣雜質(zhì)為前提其它雜技包括CF4,CCL4,SiH4和低分子碳化物

■不能去除的雜質(zhì)  氦,氖,氬,氪,氙,甲烷 ,氡和氮

638665675708172737916.png


分享到:
鄭州歐諾儀器有限公司
版權(quán)所有©2024 鄭州歐諾儀器有限公司 備案號(hào):豫ICP備12027470號(hào)-1
  • 掃一掃,關(guān)注我們